稳态/瞬态荧光光谱系统-TPL300
      TPL300-稳态/瞬态荧光光谱系统采用稳态、瞬态一体化设计，其结构紧凑、稳定性高。可实现稳态、瞬态荧光光谱测量、荧光寿命测量。配有专业数据采集软件、数据分析软件。可实现稳态/瞬态三维数据采集、数据拟合等。
科研级宽禁带半导体综合表征系统
      TPL300-UV同时具备时间分辨、光谱分辨和空间分率功能。系统使用科研级正置显微镜和高精度XY位移台，整体结构稳定，操作简单，可以实现荧光寿命采集、荧光发射谐采集、荧光强度/寿命成像、SHG成像、拉曼成像等功能。激发波长可全自动程控切换，荧光探测波长可覆盖紫外200 nm，激发波长可覆盖紫外206 nm。
多功能激光扫描共聚焦荧光成像系统-FLIM300
荧光强度、寿命成像 载流子迁移成像 荧光/拉曼光谱采集 光电流成像 电致发光成像
超快荧光光谱系统-UF100
      超快时间分辨荧光光谱系统，是一套基于条纹相机搭建的荧光测试系统 。时间分辨率可达3.5ps。可用于扫描≤50ps—100us范围内的荧光寿命。
高精度PL/EL强度、发射光谱，时间分辨PL，PLQE，QFLS，赝J-V等多功能成像 高分辨光电流/光电压成像 激光/样品扫描可选 兼容高压、低温等模块 集采集、分析于一身的控制软件
科研级钙钛矿材料/器件综合光谱表征系统
FLIM300 半导体材料深紫外光电测试系统，主要用于表征半导体材料受光激发后的光致发光行为，研究光生载流子的复合演化过程。探测光谱覆盖紫外可见波段，可实现微区尺度下的光谱信号探测。系统配备高分辨 CCD 探测器，能够完成样品微区发光信号采集与空间成像分析，可用于探究半导体薄膜、宽禁带材料、光电器件等样品的发光特性......
半导体材料深紫外光电测试系统
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